• 稳定的超纯水制备和监测

  同纳为要求严苛的半导体生产线提供稳定、高效、节能的超纯水 (UPW) 和回收/循环成套系统。同纳专注于关键微电子制造领域对超纯水水质的高要求，对紫外TOC去除器的设计选型及安装方式、颗粒物过滤器及滤芯的选材及洁净等级、抛光树脂床的运行及冲洗方式等都进行十分科学的计算及配置。同时在供水端设置严格的监测及自动控制，确保优质的超纯水进入生产线。

• 同时产线部分废水经同纳自主设计的处理回用系统，处理为纯水或超纯水供给生产车间，水的总利用率达到95%以上，能够为企业带来显著的经济和环境效益。

• 我们可以为您做好

  适用于化学机械抛光、晶片抛光、清洁漂洗、切割和研磨等的所有超纯水 (UPW)

  来自海水或苦咸水水源的超纯水 (UPW)

  通过废水处理减少重金属、废酸、颗粒物和有机化合物含量

  水回收和回用系统

  节能计划

  用于超纯水 (UPW) 和回收水的大量程灵敏的总有机碳TOC分析仪

  用于硼/二氧化硅控制的超纯水 (UPW) 含量分析仪；超微颗粒物含量在线分析仪等

• 解决方法 
  

• 采用灵敏度、稳定性符合要求的总有机碳（TOC）分析仪进行控制

• 根据源水或回收水的水质以及您对超纯水水质的技术要求进行量身设计，满足您各方面的技术及经济要求

• 膜的选用及EDI、抛光混床灵活运行方式满足您的节能、稳定、高效的技术要求

应用技术

• 1、优化的技术工艺和严格的自动控制

  超纯水制备包括预处理、双级反渗透、EDI脱盐、抛光混床处理等主要工艺流程，前道工艺的处理效率直接影响后续工艺及最终产水水质
  

• 2、废水的回收利用和源水利用率的提高

  超纯水在微电子或半导体生产线使用后的废水中主要含有与生产线工艺相关的杂质，采用同纳的回收水处理工艺后得到的水质会优于市政自来水。
  

  
  

  我们能帮助您实现：

  水的利用率高达95%，节省了资源及费用

  稳定的供水是生产产品质量的重要保证

  实现了绿色GDP，为人类赖以生存的地球村做出贡献